![\"\"](\"https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-1024x585.webp\")
<\/figure>\n\n\n\nWarum ist die Ultra-Trace-Metallanalyse in der Halbleiterfertigung so wichtig?<\/strong><\/strong><\/h2>\n\n\n\nDa sich die Halbleiterfertigung immer weiter in Richtung fortschrittlicherer Prozessknoten bewegt, wird die Toleranz gegen\u00fcber metallischen Verunreinigungen immer geringer. Selbst extrem geringe Restmetallverunreinigungen k\u00f6nnen die Prozessstabilit\u00e4t, die Leistung der Bauteile und die Gesamtausbeute beeintr\u00e4chtigen. Die Analysef\u00e4higkeit f\u00fcr Oberfl\u00e4chenmetallionen, hochreine Chemikalien und andere kritische Materialien wird daher zu einem wesentlichen Bestandteil der modernen Fertigungsinfrastruktur.<\/p>\n\n\n\n
Warum sollten Sie das EXPEC 7350S Plus f\u00fcr die Ultra-Trace-Halbleiteranalyse w\u00e4hlen?<\/strong><\/h2>\n\n\n\nBei der Ultraspuren-Halbleiteranalyse wird der Wert des Instruments nicht nur durch die Nachweisgrenzen definiert, sondern auch durch die Systemstabilit\u00e4t, die Kompatibilit\u00e4t der Arbeitsabl\u00e4ufe und die F\u00e4higkeit, kritische Anwendungen zu unterst\u00fctzen. Das EXPEC 7350S Plus basiert auf einer bew\u00e4hrten ICP-MS-Plattform und ist f\u00fcr fortschrittliche Produktionsumgebungen optimiert. Es vereint Empfindlichkeit, Automatisierungskompatibilit\u00e4t, Systemsicherheit und Anwendungsunterst\u00fctzung in einem ausgewogenen Systemdesign und hilft Laboren und Produktionsumgebungen, die steigenden Erwartungen an die Ultraspurenmetallanalyse zu erf\u00fcllen.<\/p>\n\n\n\n
H\u00f6here Empfindlichkeit f\u00fcr anspruchsvollere Detektionsanforderungen<\/strong><\/h2>\n\n\n\nAusgestattet mit einem selbstentwickelten Multi-Bend-Ionentransmissionssystem, zwei Extraktionslinsen und einer Ionenschnittstelle der n\u00e4chsten Generation erreicht das EXPEC 7350S Plus Nachweisgrenzen im Sub-ppt-Bereich. F\u00fcr Laboratorien, die metallische Verunreinigungen im Ultraspurenbereich \u00fcberwachen und kontrollieren, bietet dies ein wettbewerbsf\u00e4higes Niveau an analytischen F\u00e4higkeiten f\u00fcr fortschrittliche Halbleiteranwendungen, bei denen die Empfindlichkeit entscheidend ist.<\/p>\n\n\n\n
Entwickelt f\u00fcr automatisierte Arbeitsabl\u00e4ufe<\/strong><\/h2>\n\n\n\nIn Halbleiterumgebungen reicht die analytische Leistung allein nicht aus; auch die Workflow-Integration ist wichtig. Das EXPEC 7350S Plus unterst\u00fctzt die integrierte Kopplung mit vollautomatischen VPD-Systemen und kann f\u00fcr 8- und 12-Zoll-Wafer sowie f\u00fcr mehrere Substratmaterialien, einschlie\u00dflich Silizium und Siliziumkarbid, konfiguriert werden. Durch die Automatisierung von der Probenahme und Vorbehandlung bis hin zur Analyse und Berichterstellung tr\u00e4gt das System dazu bei, manuelle Schwankungen zu reduzieren, den Durchsatz zu verbessern und die Anforderungen an Konsistenz und Effizienz im Produktionsma\u00dfstab besser zu erf\u00fcllen.<\/p>\n\n\n\n
Systemsicherheit und Betriebsstabilit\u00e4t sind in das Design integriert<\/strong><\/h2>\n\n\n\nDas EXPEC 7350S Plus verf\u00fcgt \u00fcber eine intern entwickelte Architektur f\u00fcr alle Schl\u00fcsselkomponenten und Softwaresysteme und umfasst ein intelligentes Wasser- und Gasleck-Alarmsystem f\u00fcr die Echtzeit\u00fcberwachung und den automatischen Schutz unter anormalen Bedingungen. In kritischen analytischen Umgebungen, die eine langfristige Betriebsstabilit\u00e4t erfordern, tragen diese Funktionen dazu bei, die Ger\u00e4tesicherheit, die Laborsicherheit und die Datensicherheit zu verbessern.<\/p>\n\n\n\n
Welche Anwendungen unterst\u00fctzt das EXPEC 7350S Plus?<\/strong><\/h2>\n\n\n\nNeben der Oberfl\u00e4chen-Metallionenanalyse f\u00fcr moderne 12-Zoll-Wafer ist das EXPEC 7350S Plus f\u00fcr Anwendungen wie die Analyse von Siliziumkarbid-Wafern, hochreine nasschemische Analysen, elektronische Spezialgasanalysen und Reinheitsanalysen von hochreinen Metall-Sputter-Targets konzipiert. Es eignet sich auch f\u00fcr andere industrielle Pr\u00fcfaufgaben, die eine Elementaranalyse im Ultraspurenbereich erfordern.<\/p>\n\n\n\n
Da die Halbleiter- und High-End-Fertigungsindustrie immer h\u00f6here Anforderungen an die Prozesskontrolle und die Materialreinheit stellt, entwickelt sich die Rolle der Analyseinstrumente weiter. Diese Systeme sind nicht mehr nur Laborwerkzeuge, sondern werden zu einem wesentlichen Bestandteil der modernen Fertigungskapazit\u00e4ten. Das EXPEC 7350S Plus spiegelt den Fortschritt nicht nur bei der Nachweisempfindlichkeit wider, sondern auch bei der Systemintegration, der Automatisierungsbereitschaft und der Unterst\u00fctzung kritischer Anwendungen.<\/p>\n\n\n\n
FPI wird weiterhin in fortschrittliche Analysetechnologien investieren und sein ICP-MS-Fachwissen und seine industrielle Erfahrung nutzen, um zuverl\u00e4ssige und effiziente Analysel\u00f6sungen f\u00fcr die Halbleiterindustrie, hochreine Materialien und andere High-End-Herstellungsindustrien anzubieten.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"
Designed for advanced wafer manufacturing, high-purity materials and other high-end industrial applications, the EXPEC 7350S Plus combines sub-ppt detection capability, automated workflow compatibility and application-focused system design to support tighter contamination control and greater analytical efficiency. FPI announced the launch of the EXPEC 7350S Plus Series Triple Quadrupole Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer (ICP-MS\/MS). Built […]<\/p>\n","protected":false},"author":3,"featured_media":7615,"comment_status":"closed","ping_status":"open","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"_acf_changed":false,"footnotes":""},"categories":[1],"tags":[],"class_list":["post-7613","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-uncategorized"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/7613","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/users\/3"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=7613"}],"version-history":[{"count":1,"href":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/7613\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":7616,"href":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/7613\/revisions\/7616"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/7615"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=7613"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=7613"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=7613"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}
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H\u00f6here Empfindlichkeit f\u00fcr anspruchsvollere Detektionsanforderungen<\/strong><\/h2>\n\n\n\nAusgestattet mit einem selbstentwickelten Multi-Bend-Ionentransmissionssystem, zwei Extraktionslinsen und einer Ionenschnittstelle der n\u00e4chsten Generation erreicht das EXPEC 7350S Plus Nachweisgrenzen im Sub-ppt-Bereich. F\u00fcr Laboratorien, die metallische Verunreinigungen im Ultraspurenbereich \u00fcberwachen und kontrollieren, bietet dies ein wettbewerbsf\u00e4higes Niveau an analytischen F\u00e4higkeiten f\u00fcr fortschrittliche Halbleiteranwendungen, bei denen die Empfindlichkeit entscheidend ist.<\/p>\n\n\n\n
Entwickelt f\u00fcr automatisierte Arbeitsabl\u00e4ufe<\/strong><\/h2>\n\n\n\nIn Halbleiterumgebungen reicht die analytische Leistung allein nicht aus; auch die Workflow-Integration ist wichtig. Das EXPEC 7350S Plus unterst\u00fctzt die integrierte Kopplung mit vollautomatischen VPD-Systemen und kann f\u00fcr 8- und 12-Zoll-Wafer sowie f\u00fcr mehrere Substratmaterialien, einschlie\u00dflich Silizium und Siliziumkarbid, konfiguriert werden. Durch die Automatisierung von der Probenahme und Vorbehandlung bis hin zur Analyse und Berichterstellung tr\u00e4gt das System dazu bei, manuelle Schwankungen zu reduzieren, den Durchsatz zu verbessern und die Anforderungen an Konsistenz und Effizienz im Produktionsma\u00dfstab besser zu erf\u00fcllen.<\/p>\n\n\n\n
Systemsicherheit und Betriebsstabilit\u00e4t sind in das Design integriert<\/strong><\/h2>\n\n\n\nDas EXPEC 7350S Plus verf\u00fcgt \u00fcber eine intern entwickelte Architektur f\u00fcr alle Schl\u00fcsselkomponenten und Softwaresysteme und umfasst ein intelligentes Wasser- und Gasleck-Alarmsystem f\u00fcr die Echtzeit\u00fcberwachung und den automatischen Schutz unter anormalen Bedingungen. In kritischen analytischen Umgebungen, die eine langfristige Betriebsstabilit\u00e4t erfordern, tragen diese Funktionen dazu bei, die Ger\u00e4tesicherheit, die Laborsicherheit und die Datensicherheit zu verbessern.<\/p>\n\n\n\n
Welche Anwendungen unterst\u00fctzt das EXPEC 7350S Plus?<\/strong><\/h2>\n\n\n\nNeben der Oberfl\u00e4chen-Metallionenanalyse f\u00fcr moderne 12-Zoll-Wafer ist das EXPEC 7350S Plus f\u00fcr Anwendungen wie die Analyse von Siliziumkarbid-Wafern, hochreine nasschemische Analysen, elektronische Spezialgasanalysen und Reinheitsanalysen von hochreinen Metall-Sputter-Targets konzipiert. Es eignet sich auch f\u00fcr andere industrielle Pr\u00fcfaufgaben, die eine Elementaranalyse im Ultraspurenbereich erfordern.<\/p>\n\n\n\n
Da die Halbleiter- und High-End-Fertigungsindustrie immer h\u00f6here Anforderungen an die Prozesskontrolle und die Materialreinheit stellt, entwickelt sich die Rolle der Analyseinstrumente weiter. Diese Systeme sind nicht mehr nur Laborwerkzeuge, sondern werden zu einem wesentlichen Bestandteil der modernen Fertigungskapazit\u00e4ten. Das EXPEC 7350S Plus spiegelt den Fortschritt nicht nur bei der Nachweisempfindlichkeit wider, sondern auch bei der Systemintegration, der Automatisierungsbereitschaft und der Unterst\u00fctzung kritischer Anwendungen.<\/p>\n\n\n\n
FPI wird weiterhin in fortschrittliche Analysetechnologien investieren und sein ICP-MS-Fachwissen und seine industrielle Erfahrung nutzen, um zuverl\u00e4ssige und effiziente Analysel\u00f6sungen f\u00fcr die Halbleiterindustrie, hochreine Materialien und andere High-End-Herstellungsindustrien anzubieten.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"
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Welche Anwendungen unterst\u00fctzt das EXPEC 7350S Plus?<\/strong><\/h2>\n\n\n\nNeben der Oberfl\u00e4chen-Metallionenanalyse f\u00fcr moderne 12-Zoll-Wafer ist das EXPEC 7350S Plus f\u00fcr Anwendungen wie die Analyse von Siliziumkarbid-Wafern, hochreine nasschemische Analysen, elektronische Spezialgasanalysen und Reinheitsanalysen von hochreinen Metall-Sputter-Targets konzipiert. Es eignet sich auch f\u00fcr andere industrielle Pr\u00fcfaufgaben, die eine Elementaranalyse im Ultraspurenbereich erfordern.<\/p>\n\n\n\n
Da die Halbleiter- und High-End-Fertigungsindustrie immer h\u00f6here Anforderungen an die Prozesskontrolle und die Materialreinheit stellt, entwickelt sich die Rolle der Analyseinstrumente weiter. Diese Systeme sind nicht mehr nur Laborwerkzeuge, sondern werden zu einem wesentlichen Bestandteil der modernen Fertigungskapazit\u00e4ten. Das EXPEC 7350S Plus spiegelt den Fortschritt nicht nur bei der Nachweisempfindlichkeit wider, sondern auch bei der Systemintegration, der Automatisierungsbereitschaft und der Unterst\u00fctzung kritischer Anwendungen.<\/p>\n\n\n\n
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