{"id":7613,"date":"2026-05-13T07:11:13","date_gmt":"2026-05-13T07:11:13","guid":{"rendered":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/?p=7613"},"modified":"2026-05-13T07:11:15","modified_gmt":"2026-05-13T07:11:15","slug":"fpi-expec-7350s-plus-icp-ms-ms-for-ultra-trace-metal-analysis-in-semiconductor-manufacturing","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/es\/fpi-expec-7350s-plus-icp-ms-ms-for-ultra-trace-metal-analysis-in-semiconductor-manufacturing\/","title":{"rendered":"FPI EXPEC 7350S Plus ICP-MS\/MS para el an\u00e1lisis ultratraza de metales en la fabricaci\u00f3n de semiconductores"},"content":{"rendered":"<p>Dise\u00f1ado para la fabricaci\u00f3n avanzada de obleas, materiales de alta pureza y otras aplicaciones industriales de gama alta, el EXPEC 7350S Plus combina la capacidad de detecci\u00f3n sub-ppt, la compatibilidad con flujos de trabajo automatizados y un dise\u00f1o de sistema centrado en la aplicaci\u00f3n para permitir un control m\u00e1s estricto de la contaminaci\u00f3n y una mayor eficacia anal\u00edtica.<\/p>\n\n\n\n<p>FPI ha anunciado el lanzamiento del espectr\u00f3metro de masas de plasma acoplado inductivamente (ICP-MS\/MS) de triple cuadrupolo de la serie EXPEC 7350S Plus. Basado en la consolidada plataforma ICP-MS de la empresa y mejorado espec\u00edficamente para flujos de trabajo de fabricaci\u00f3n de semiconductores y de gama alta, el sistema ofrece capacidad de detecci\u00f3n de metales ultratraza por debajo del ppt y admite aplicaciones cr\u00edticas como el an\u00e1lisis de iones met\u00e1licos superficiales asociado a procesos avanzados de obleas de 12 pulgadas.<\/p>\n\n\n\n<figure class=\"wp-block-image aligncenter size-large is-resized\"><img fetchpriority=\"high\" decoding=\"async\" width=\"1024\" height=\"585\" src=\"https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-1024x585.webp\" alt=\"\" class=\"wp-image-7614\" style=\"aspect-ratio:1.7505022831050228;width:577px;height:auto\" srcset=\"https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-1024x585.webp 1024w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-300x171.webp 300w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-768x439.webp 768w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-1536x878.webp 1536w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-18x10.webp 18w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59.webp 1659w\" sizes=\"(max-width: 1024px) 100vw, 1024px\" \/><\/figure>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong><strong>\u00bfPor qu\u00e9 es tan importante el an\u00e1lisis ultratraza de metales en la fabricaci\u00f3n de semiconductores?<\/strong><\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>A medida que la fabricaci\u00f3n de semiconductores avanza hacia nodos de proceso m\u00e1s avanzados, la tolerancia a las impurezas met\u00e1licas es cada vez m\u00e1s limitada. Incluso niveles extremadamente bajos de contaminaci\u00f3n met\u00e1lica residual pueden afectar a la estabilidad del proceso, al rendimiento del dispositivo y a la producci\u00f3n global. Por tanto, la capacidad anal\u00edtica de iones met\u00e1licos superficiales, productos qu\u00edmicos de gran pureza y otros materiales cr\u00edticos se est\u00e1 convirtiendo en una parte esencial de la infraestructura de fabricaci\u00f3n avanzada.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>\u00bfPor qu\u00e9 elegir el EXPEC 7350S Plus para el an\u00e1lisis ultrarr\u00e1pido de semiconductores?<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>Para el an\u00e1lisis de ultratrazas de semiconductores, el valor de los instrumentos se define no s\u00f3lo por los l\u00edmites de detecci\u00f3n, sino tambi\u00e9n por la estabilidad del sistema, la compatibilidad del flujo de trabajo y la capacidad de soportar aplicaciones cr\u00edticas. Basado en una plataforma ICP-MS de eficacia probada y optimizado para entornos de fabricaci\u00f3n avanzados, el EXPEC 7350S Plus a\u00fana sensibilidad, compatibilidad de automatizaci\u00f3n, seguridad del sistema y compatibilidad de aplicaciones en un dise\u00f1o de sistema m\u00e1s equilibrado, lo que ayuda a los laboratorios y entornos de producci\u00f3n a satisfacer las crecientes expectativas de an\u00e1lisis de ultratrazas de metales.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>Mayor sensibilidad para requisitos de detecci\u00f3n m\u00e1s exigentes<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>Equipado con un sistema de transmisi\u00f3n de iones de curvatura m\u00faltiple de desarrollo propio, lentes de extracci\u00f3n duales y una interfaz de iones de \u00faltima generaci\u00f3n, el EXPEC 7350S Plus alcanza l\u00edmites de detecci\u00f3n por debajo de ppt. Para los laboratorios que supervisan y controlan la contaminaci\u00f3n met\u00e1lica de ultratrazas, esto proporciona un nivel competitivo de capacidad anal\u00edtica para aplicaciones avanzadas de semiconductores en las que la sensibilidad es fundamental.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>Dise\u00f1ado para flujos de trabajo automatizados<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>En los entornos de semiconductores, el rendimiento anal\u00edtico por s\u00ed solo no es suficiente; la integraci\u00f3n del flujo de trabajo tambi\u00e9n importa. El EXPEC 7350S Plus admite el acoplamiento integrado con sistemas VPD totalmente automatizados y puede configurarse para obleas de 8 y 12 pulgadas, as\u00ed como para m\u00faltiples materiales de sustrato, incluidos el silicio y el carburo de silicio. Al permitir la automatizaci\u00f3n desde el muestreo y el pretratamiento hasta el an\u00e1lisis y la generaci\u00f3n de informes, el sistema ayuda a reducir la variabilidad manual, mejorar el rendimiento y adaptarse mejor a los requisitos de coherencia y eficacia de las operaciones a escala de producci\u00f3n.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>La seguridad del sistema y la estabilidad operativa est\u00e1n integradas en el dise\u00f1o<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>El EXPEC 7350S Plus incorpora una arquitectura desarrollada internamente en todos los componentes clave y sistemas de software, e incluye un sistema inteligente de alarma de fugas de agua y gas para la supervisi\u00f3n en tiempo real y la protecci\u00f3n autom\u00e1tica en condiciones an\u00f3malas. En entornos anal\u00edticos cr\u00edticos que exigen una estabilidad operativa a largo plazo, estas caracter\u00edsticas contribuyen a reforzar la seguridad de los instrumentos, la seguridad del laboratorio y la seguridad de los datos.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>\u00bfQu\u00e9 aplicaciones admite el EXPEC 7350S Plus?<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>Adem\u00e1s del an\u00e1lisis de iones met\u00e1licos superficiales para obleas avanzadas de 12 pulgadas, el EXPEC 7350S Plus est\u00e1 dise\u00f1ado para aplicaciones que incluyen el an\u00e1lisis de obleas de carburo de silicio, el an\u00e1lisis qu\u00edmico electr\u00f3nico h\u00famedo ultrapuro, el an\u00e1lisis electr\u00f3nico de gases especiales y el an\u00e1lisis de pureza de c\u00e1todos met\u00e1licos de alta pureza para sputtering. Tambi\u00e9n es adecuado para otras tareas de pruebas industriales que requieren an\u00e1lisis elemental ultratraza.<\/p>\n\n\n\n<p>A medida que las industrias de semiconductores y fabricaci\u00f3n de alta gama siguen aumentando las expectativas de control de procesos y pureza de materiales, el papel de la instrumentaci\u00f3n anal\u00edtica est\u00e1 evolucionando. Estos sistemas ya no son s\u00f3lo herramientas de laboratorio; se est\u00e1n convirtiendo en una parte esencial de la capacidad de fabricaci\u00f3n avanzada. El EXPEC 7350S Plus refleja los avances no s\u00f3lo en sensibilidad de detecci\u00f3n, sino tambi\u00e9n en integraci\u00f3n de sistemas, preparaci\u00f3n para la automatizaci\u00f3n y compatibilidad con aplicaciones cr\u00edticas.<\/p>\n\n\n\n<p>FPI seguir\u00e1 invirtiendo en tecnolog\u00edas anal\u00edticas avanzadas y aprovechando sus conocimientos sobre ICP-MS y su experiencia industrial para ofrecer soluciones anal\u00edticas fiables y eficaces para semiconductores, materiales de gran pureza y otras industrias de fabricaci\u00f3n de alta gama.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Designed for advanced wafer manufacturing, high-purity materials and other high-end industrial applications, the EXPEC 7350S Plus combines sub-ppt detection capability, automated workflow compatibility and application-focused system design to support tighter contamination control and greater analytical efficiency. FPI announced the launch of the EXPEC 7350S Plus Series Triple Quadrupole Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer (ICP-MS\/MS). 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