{"id":7613,"date":"2026-05-13T07:11:13","date_gmt":"2026-05-13T07:11:13","guid":{"rendered":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/?p=7613"},"modified":"2026-05-13T07:11:15","modified_gmt":"2026-05-13T07:11:15","slug":"fpi-expec-7350s-plus-icp-ms-ms-for-ultra-trace-metal-analysis-in-semiconductor-manufacturing","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/fr\/fpi-expec-7350s-plus-icp-ms-ms-for-ultra-trace-metal-analysis-in-semiconductor-manufacturing\/","title":{"rendered":"FPI EXPEC 7350S Plus ICP-MS\/MS pour l'analyse des m\u00e9taux \u00e0 l'\u00e9tat de traces dans la fabrication des semi-conducteurs"},"content":{"rendered":"<p>Con\u00e7u pour la fabrication avanc\u00e9e de plaquettes, les mat\u00e9riaux de haute puret\u00e9 et d'autres applications industrielles haut de gamme, l'EXPEC 7350S Plus combine une capacit\u00e9 de d\u00e9tection sub-ppt, une compatibilit\u00e9 avec le flux de travail automatis\u00e9 et une conception de syst\u00e8me ax\u00e9e sur l'application pour permettre un contr\u00f4le plus strict de la contamination et une plus grande efficacit\u00e9 analytique.<\/p>\n\n\n\n<p>FPI a annonc\u00e9 le lancement du spectrom\u00e8tre de masse \u00e0 plasma inductif triple quadrip\u00f4le EXPEC 7350S Plus Series (ICP-MS\/MS). Construit sur la plate-forme ICP-MS \u00e9tablie de la soci\u00e9t\u00e9 et sp\u00e9cialement am\u00e9lior\u00e9 pour les semi-conducteurs et les flux de fabrication haut de gamme, le syst\u00e8me offre une capacit\u00e9 de d\u00e9tection des m\u00e9taux ultra-traces sub-ppt et prend en charge des applications critiques telles que l'analyse des ions m\u00e9talliques de surface associ\u00e9e aux processus avanc\u00e9s de fabrication de plaquettes de 12 pouces.<\/p>\n\n\n\n<figure class=\"wp-block-image aligncenter size-large is-resized\"><img fetchpriority=\"high\" decoding=\"async\" width=\"1024\" height=\"585\" src=\"https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-1024x585.webp\" alt=\"\" class=\"wp-image-7614\" style=\"aspect-ratio:1.7505022831050228;width:577px;height:auto\" srcset=\"https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-1024x585.webp 1024w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-300x171.webp 300w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-768x439.webp 768w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-1536x878.webp 1536w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-18x10.webp 18w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59.webp 1659w\" sizes=\"(max-width: 1024px) 100vw, 1024px\" \/><\/figure>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong><strong>Pourquoi l'analyse des m\u00e9taux par ultra-traces est-elle si importante dans la fabrication des semi-conducteurs ?<\/strong><\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>Alors que la fabrication de semi-conducteurs continue \u00e0 \u00e9voluer vers des n\u0153uds de processus plus avanc\u00e9s, la tol\u00e9rance aux impuret\u00e9s m\u00e9talliques devient de plus en plus limit\u00e9e. M\u00eame des niveaux extr\u00eamement faibles de contamination m\u00e9tallique r\u00e9siduelle peuvent affecter la stabilit\u00e9 du processus, la performance des dispositifs et le rendement global. La capacit\u00e9 d'analyse des ions m\u00e9talliques de surface, des produits chimiques de haute puret\u00e9 et d'autres mat\u00e9riaux critiques devient donc un \u00e9l\u00e9ment essentiel de l'infrastructure de fabrication avanc\u00e9e.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>Pourquoi choisir l'EXPEC 7350S Plus pour l'analyse des semi-conducteurs en ultra-trace ?<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>Pour l'analyse des semi-conducteurs \u00e0 l'\u00e9tat d'ultra-trace, la valeur de l'instrument n'est pas seulement d\u00e9finie par les limites de d\u00e9tection, mais aussi par la stabilit\u00e9 du syst\u00e8me, la compatibilit\u00e9 du flux de travail et la capacit\u00e9 \u00e0 prendre en charge les applications critiques. Construit sur une plate-forme ICP-MS \u00e9prouv\u00e9e et optimis\u00e9 pour les environnements de fabrication avanc\u00e9s, l'EXPEC 7350S Plus r\u00e9unit la sensibilit\u00e9, la compatibilit\u00e9 avec l'automatisation, la s\u00e9curit\u00e9 du syst\u00e8me et le soutien des applications dans une conception de syst\u00e8me plus \u00e9quilibr\u00e9e, aidant les laboratoires et les environnements de production \u00e0 r\u00e9pondre aux attentes croissantes en mati\u00e8re d'analyse des m\u00e9taux \u00e0 l'\u00e9tat d'ultra-trace.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>Une plus grande sensibilit\u00e9 pour des exigences de d\u00e9tection plus \u00e9lev\u00e9es<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>\u00c9quip\u00e9 d'un syst\u00e8me de transmission d'ions \u00e0 courbures multiples d\u00e9velopp\u00e9 par l'entreprise, de deux lentilles d'extraction et d'une interface ionique de nouvelle g\u00e9n\u00e9ration, l'EXPEC 7350S Plus permet d'atteindre des limites de d\u00e9tection inf\u00e9rieures au ppm. Pour les laboratoires qui surveillent et contr\u00f4lent la contamination m\u00e9tallique \u00e0 l'\u00e9tat d'ultra-trace, il offre un niveau comp\u00e9titif de capacit\u00e9 analytique pour les applications de semi-conducteurs avanc\u00e9s o\u00f9 la sensibilit\u00e9 est essentielle.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>Con\u00e7u pour des flux de travail automatis\u00e9s<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>Dans les environnements de semi-conducteurs, les performances analytiques ne suffisent pas ; l'int\u00e9gration du flux de travail est \u00e9galement importante. L'EXPEC 7350S Plus permet un couplage int\u00e9gr\u00e9 avec des syst\u00e8mes VPD enti\u00e8rement automatis\u00e9s et peut \u00eatre configur\u00e9 pour des plaquettes de 8 et 12 pouces ainsi que pour de multiples mat\u00e9riaux de substrat, y compris le silicium et le carbure de silicium. En permettant l'automatisation de l'\u00e9chantillonnage et du pr\u00e9traitement jusqu'\u00e0 l'analyse et au rapport, le syst\u00e8me contribue \u00e0 r\u00e9duire la variabilit\u00e9 manuelle, \u00e0 am\u00e9liorer le d\u00e9bit et \u00e0 mieux s'aligner sur les exigences de coh\u00e9rence et d'efficacit\u00e9 des op\u00e9rations \u00e0 l'\u00e9chelle de la production.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>La s\u00e9curit\u00e9 du syst\u00e8me et la stabilit\u00e9 op\u00e9rationnelle sont int\u00e9gr\u00e9es dans la conception<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>L'EXPEC 7350S Plus int\u00e8gre une architecture d\u00e9velopp\u00e9e en interne pour les principaux composants et syst\u00e8mes logiciels, ainsi qu'un syst\u00e8me intelligent d'alarme de fuite d'eau et de gaz pour une surveillance en temps r\u00e9el et une protection automatique dans des conditions anormales. Dans les environnements analytiques critiques qui exigent une stabilit\u00e9 op\u00e9rationnelle \u00e0 long terme, ces caract\u00e9ristiques contribuent \u00e0 renforcer la s\u00e9curit\u00e9 de l'instrument, la s\u00e9curit\u00e9 du laboratoire et la s\u00e9curit\u00e9 des donn\u00e9es.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>Quelles sont les applications prises en charge par l'EXPEC 7350S Plus ?<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>Outre l'analyse des ions m\u00e9talliques de surface pour les plaquettes de 12 pouces, l'EXPEC 7350S Plus est con\u00e7u pour des applications telles que l'analyse des plaquettes de carbure de silicium, l'analyse chimique \u00e9lectronique humide ultra-pure, l'analyse des gaz sp\u00e9ciaux \u00e9lectroniques et l'analyse de la puret\u00e9 des cibles de pulv\u00e9risation de m\u00e9taux de haute puret\u00e9. Il convient \u00e9galement \u00e0 d'autres t\u00e2ches d'essais industriels n\u00e9cessitant une analyse \u00e9l\u00e9mentaire \u00e0 l'\u00e9tat de traces.<\/p>\n\n\n\n<p>Alors que les industries des semi-conducteurs et de la fabrication haut de gamme continuent d'accro\u00eetre leurs attentes en mati\u00e8re de contr\u00f4le des processus et de puret\u00e9 des mat\u00e9riaux, le r\u00f4le de l'instrumentation analytique \u00e9volue. Ces syst\u00e8mes ne sont plus seulement des outils de laboratoire ; ils deviennent un \u00e9l\u00e9ment essentiel de la capacit\u00e9 de fabrication avanc\u00e9e. L'EXPEC 7350S Plus refl\u00e8te les progr\u00e8s r\u00e9alis\u00e9s non seulement en mati\u00e8re de sensibilit\u00e9 de d\u00e9tection, mais aussi d'int\u00e9gration des syst\u00e8mes, de pr\u00e9paration \u00e0 l'automatisation et de soutien aux applications critiques.<\/p>\n\n\n\n<p>FPI continuera \u00e0 investir dans des technologies analytiques avanc\u00e9es et \u00e0 s'appuyer sur son expertise ICP-MS et son exp\u00e9rience industrielle pour fournir des solutions analytiques fiables et efficaces pour les semi-conducteurs, les mat\u00e9riaux de haute puret\u00e9 et d'autres industries de fabrication haut de gamme.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Designed for advanced wafer manufacturing, high-purity materials and other high-end industrial applications, the EXPEC 7350S Plus combines sub-ppt detection capability, automated workflow compatibility and application-focused system design to support tighter contamination control and greater analytical efficiency. 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