{"id":7613,"date":"2026-05-13T07:11:13","date_gmt":"2026-05-13T07:11:13","guid":{"rendered":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/?p=7613"},"modified":"2026-05-13T07:11:15","modified_gmt":"2026-05-13T07:11:15","slug":"fpi-expec-7350s-plus-icp-ms-ms-for-ultra-trace-metal-analysis-in-semiconductor-manufacturing","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/en.fpi-inc.com\/pt\/fpi-expec-7350s-plus-icp-ms-ms-for-ultra-trace-metal-analysis-in-semiconductor-manufacturing\/","title":{"rendered":"FPI EXPEC 7350S Plus ICP-MS\/MS para an\u00e1lise ultra-tra\u00e7o de metais no fabrico de semicondutores"},"content":{"rendered":"<p>Concebido para o fabrico avan\u00e7ado de bolachas, materiais de elevada pureza e outras aplica\u00e7\u00f5es industriais de topo de gama, o EXPEC 7350S Plus combina a capacidade de dete\u00e7\u00e3o sub-ppt, a compatibilidade com o fluxo de trabalho automatizado e a conce\u00e7\u00e3o de sistemas centrados na aplica\u00e7\u00e3o para suportar um controlo mais rigoroso da contamina\u00e7\u00e3o e uma maior efici\u00eancia anal\u00edtica.<\/p>\n\n\n\n<p>A FPI anunciou o lan\u00e7amento do Espectr\u00f3metro de Massa de Plasma Indutivamente Acoplado (ICP-MS\/MS) Triplo Quadrupolo da s\u00e9rie EXPEC 7350S Plus. Constru\u00eddo com base na plataforma ICP-MS estabelecida pela empresa e especificamente melhorado para fluxos de trabalho de fabrico de semicondutores e de topo de gama, o sistema oferece uma capacidade de dete\u00e7\u00e3o de metais ultra-rastreados sub-ppt e suporta aplica\u00e7\u00f5es cr\u00edticas como a an\u00e1lise de i\u00f5es met\u00e1licos de superf\u00edcie associada a processos avan\u00e7ados de bolachas de 12 polegadas.<\/p>\n\n\n\n<figure class=\"wp-block-image aligncenter size-large is-resized\"><img fetchpriority=\"high\" decoding=\"async\" width=\"1024\" height=\"585\" src=\"https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-1024x585.webp\" alt=\"\" class=\"wp-image-7614\" style=\"aspect-ratio:1.7505022831050228;width:577px;height:auto\" srcset=\"https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-1024x585.webp 1024w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-300x171.webp 300w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-768x439.webp 768w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-1536x878.webp 1536w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59-18x10.webp 18w, https:\/\/en.fpi-inc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260513112921_46_59.webp 1659w\" sizes=\"(max-width: 1024px) 100vw, 1024px\" \/><\/figure>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong><strong>Porque \u00e9 que a an\u00e1lise ultra-rastreada de metais \u00e9 t\u00e3o importante no fabrico de semicondutores?<\/strong><\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>\u00c0 medida que o fabrico de semicondutores continua a avan\u00e7ar para n\u00f3s de processo mais avan\u00e7ados, a toler\u00e2ncia \u00e0s impurezas met\u00e1licas est\u00e1 a tornar-se cada vez mais limitada. Mesmo n\u00edveis extremamente baixos de contamina\u00e7\u00e3o met\u00e1lica residual podem afetar a estabilidade do processo, o desempenho do dispositivo e o rendimento global. A capacidade anal\u00edtica para i\u00f5es met\u00e1licos de superf\u00edcie, produtos qu\u00edmicos de elevada pureza e outros materiais cr\u00edticos est\u00e1, portanto, a tornar-se uma parte essencial da infraestrutura de fabrico avan\u00e7ado.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>Por que escolher o EXPEC 7350S Plus para an\u00e1lise ultra-rastreada de semicondutores?<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>Para a an\u00e1lise de semicondutores ultra-tra\u00e7o, o valor do instrumento \u00e9 definido n\u00e3o apenas pelos limites de dete\u00e7\u00e3o, mas tamb\u00e9m pela estabilidade do sistema, compatibilidade do fluxo de trabalho e capacidade de suportar aplica\u00e7\u00f5es cr\u00edticas. Constru\u00eddo sobre uma plataforma ICP-MS comprovada e optimizado para ambientes de fabrico avan\u00e7ados, o EXPEC 7350S Plus re\u00fane sensibilidade, compatibilidade de automa\u00e7\u00e3o, seguran\u00e7a do sistema e suporte de aplica\u00e7\u00f5es num design de sistema mais equilibrado, ajudando os laborat\u00f3rios e ambientes de produ\u00e7\u00e3o a satisfazer as expectativas crescentes de an\u00e1lise de metais ultra-tra\u00e7o.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>Maior sensibilidade para requisitos de dete\u00e7\u00e3o mais exigentes<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>Equipado com um sistema de transmiss\u00e3o de i\u00f5es multicurvas desenvolvido pela pr\u00f3pria empresa, lentes de extra\u00e7\u00e3o duplas e uma interface de i\u00f5es da pr\u00f3xima gera\u00e7\u00e3o, o EXPEC 7350S Plus atinge limites de dete\u00e7\u00e3o sub-ppt. Para os laborat\u00f3rios que monitorizam e controlam a contamina\u00e7\u00e3o met\u00e1lica ultra-tra\u00e7o, isto proporciona um n\u00edvel competitivo de capacidade anal\u00edtica para aplica\u00e7\u00f5es avan\u00e7adas de semicondutores onde a sensibilidade \u00e9 cr\u00edtica.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>Concebido para fluxos de trabalho automatizados<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>Em ambientes de semicondutores, o desempenho anal\u00edtico por si s\u00f3 n\u00e3o \u00e9 suficiente; a integra\u00e7\u00e3o do fluxo de trabalho tamb\u00e9m \u00e9 importante. O EXPEC 7350S Plus suporta o acoplamento integrado com sistemas VPD totalmente automatizados e pode ser configurado para wafers de 8 e 12 polegadas, bem como para v\u00e1rios materiais de substrato, incluindo sil\u00edcio e carboneto de sil\u00edcio. Ao permitir a automatiza\u00e7\u00e3o desde a amostragem e pr\u00e9-tratamento at\u00e9 \u00e0 an\u00e1lise e elabora\u00e7\u00e3o de relat\u00f3rios, o sistema ajuda a reduzir a variabilidade manual, a melhorar o rendimento e a alinhar-se melhor com os requisitos de consist\u00eancia e efici\u00eancia das opera\u00e7\u00f5es \u00e0 escala de produ\u00e7\u00e3o.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>A seguran\u00e7a do sistema e a estabilidade operacional est\u00e3o integradas na conce\u00e7\u00e3o<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>O EXPEC 7350S Plus incorpora uma arquitetura desenvolvida internamente nos principais componentes e sistemas de software e inclui um sistema inteligente de alarme de fugas de \u00e1gua e g\u00e1s para monitoriza\u00e7\u00e3o em tempo real e prote\u00e7\u00e3o autom\u00e1tica em condi\u00e7\u00f5es anormais. Em ambientes anal\u00edticos cr\u00edticos que exigem estabilidade operacional a longo prazo, estas carater\u00edsticas ajudam a refor\u00e7ar a seguran\u00e7a do instrumento, a seguran\u00e7a do laborat\u00f3rio e a seguran\u00e7a dos dados.<\/p>\n\n\n\n<h2 class=\"wp-block-heading\"><strong>Que aplica\u00e7\u00f5es s\u00e3o suportadas pelo EXPEC 7350S Plus?<\/strong><\/h2>\n\n\n\n<p>Para al\u00e9m da an\u00e1lise de i\u00f5es met\u00e1licos de superf\u00edcie para bolachas avan\u00e7adas de 12 polegadas, o EXPEC 7350S Plus foi concebido para aplica\u00e7\u00f5es que incluem a an\u00e1lise de bolachas de carboneto de sil\u00edcio, an\u00e1lise qu\u00edmica eletr\u00f3nica h\u00famida ultrapura, an\u00e1lise eletr\u00f3nica de gases especiais e an\u00e1lise da pureza de alvos de pulveriza\u00e7\u00e3o de metais de elevada pureza. Tamb\u00e9m \u00e9 adequado para outras tarefas de testes industriais que requerem an\u00e1lise elementar ultra-tra\u00e7o.<\/p>\n\n\n\n<p>\u00c0 medida que as ind\u00fastrias de semicondutores e de fabrico topo de gama continuam a aumentar as expectativas de controlo dos processos e de pureza dos materiais, o papel da instrumenta\u00e7\u00e3o anal\u00edtica est\u00e1 a evoluir. Estes sistemas j\u00e1 n\u00e3o s\u00e3o apenas ferramentas de laborat\u00f3rio; est\u00e3o a tornar-se uma parte essencial da capacidade de fabrico avan\u00e7ada. O EXPEC 7350S Plus reflecte o progresso n\u00e3o s\u00f3 na sensibilidade de dete\u00e7\u00e3o, mas tamb\u00e9m na integra\u00e7\u00e3o de sistemas, prontid\u00e3o de automatiza\u00e7\u00e3o e apoio a aplica\u00e7\u00f5es cr\u00edticas.<\/p>\n\n\n\n<p>A FPI continuar\u00e1 a investir em tecnologias anal\u00edticas avan\u00e7adas e a basear-se nos seus conhecimentos especializados em ICP-MS e na sua experi\u00eancia industrial para fornecer solu\u00e7\u00f5es anal\u00edticas fi\u00e1veis e eficientes para semicondutores, materiais de elevada pureza e outras ind\u00fastrias transformadoras de topo de gama.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Designed for advanced wafer manufacturing, high-purity materials and other high-end industrial applications, the EXPEC 7350S Plus combines sub-ppt detection capability, automated workflow compatibility and application-focused system design to support tighter contamination control and greater analytical efficiency. 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