Conçu pour la fabrication avancée de plaquettes, les matériaux de haute pureté et d'autres applications industrielles haut de gamme, l'EXPEC 7350S Plus combine une capacité de détection sub-ppt, une compatibilité avec le flux de travail automatisé et une conception de système axée sur l'application pour permettre un contrôle plus strict de la contamination et une plus grande efficacité analytique.
FPI a annoncé le lancement du spectromètre de masse à plasma inductif triple quadripôle EXPEC 7350S Plus Series (ICP-MS/MS). Construit sur la plate-forme ICP-MS établie de la société et spécialement amélioré pour les semi-conducteurs et les flux de fabrication haut de gamme, le système offre une capacité de détection des métaux ultra-traces sub-ppt et prend en charge des applications critiques telles que l'analyse des ions métalliques de surface associée aux processus avancés de fabrication de plaquettes de 12 pouces.
Pourquoi l'analyse des métaux par ultra-traces est-elle si importante dans la fabrication des semi-conducteurs ?
Alors que la fabrication de semi-conducteurs continue à évoluer vers des nœuds de processus plus avancés, la tolérance aux impuretés métalliques devient de plus en plus limitée. Même des niveaux extrêmement faibles de contamination métallique résiduelle peuvent affecter la stabilité du processus, la performance des dispositifs et le rendement global. La capacité d'analyse des ions métalliques de surface, des produits chimiques de haute pureté et d'autres matériaux critiques devient donc un élément essentiel de l'infrastructure de fabrication avancée.
Pourquoi choisir l'EXPEC 7350S Plus pour l'analyse des semi-conducteurs en ultra-trace ?
Pour l'analyse des semi-conducteurs à l'état d'ultra-trace, la valeur de l'instrument n'est pas seulement définie par les limites de détection, mais aussi par la stabilité du système, la compatibilité du flux de travail et la capacité à prendre en charge les applications critiques. Construit sur une plate-forme ICP-MS éprouvée et optimisé pour les environnements de fabrication avancés, l'EXPEC 7350S Plus réunit la sensibilité, la compatibilité avec l'automatisation, la sécurité du système et le soutien des applications dans une conception de système plus équilibrée, aidant les laboratoires et les environnements de production à répondre aux attentes croissantes en matière d'analyse des métaux à l'état d'ultra-trace.
Une plus grande sensibilité pour des exigences de détection plus élevées
Équipé d'un système de transmission d'ions à courbures multiples développé par l'entreprise, de deux lentilles d'extraction et d'une interface ionique de nouvelle génération, l'EXPEC 7350S Plus permet d'atteindre des limites de détection inférieures au ppm. Pour les laboratoires qui surveillent et contrôlent la contamination métallique à l'état d'ultra-trace, il offre un niveau compétitif de capacité analytique pour les applications de semi-conducteurs avancés où la sensibilité est essentielle.
Conçu pour des flux de travail automatisés
Dans les environnements de semi-conducteurs, les performances analytiques ne suffisent pas ; l'intégration du flux de travail est également importante. L'EXPEC 7350S Plus permet un couplage intégré avec des systèmes VPD entièrement automatisés et peut être configuré pour des plaquettes de 8 et 12 pouces ainsi que pour de multiples matériaux de substrat, y compris le silicium et le carbure de silicium. En permettant l'automatisation de l'échantillonnage et du prétraitement jusqu'à l'analyse et au rapport, le système contribue à réduire la variabilité manuelle, à améliorer le débit et à mieux s'aligner sur les exigences de cohérence et d'efficacité des opérations à l'échelle de la production.
La sécurité du système et la stabilité opérationnelle sont intégrées dans la conception
L'EXPEC 7350S Plus intègre une architecture développée en interne pour les principaux composants et systèmes logiciels, ainsi qu'un système intelligent d'alarme de fuite d'eau et de gaz pour une surveillance en temps réel et une protection automatique dans des conditions anormales. Dans les environnements analytiques critiques qui exigent une stabilité opérationnelle à long terme, ces caractéristiques contribuent à renforcer la sécurité de l'instrument, la sécurité du laboratoire et la sécurité des données.
Quelles sont les applications prises en charge par l'EXPEC 7350S Plus ?
Outre l'analyse des ions métalliques de surface pour les plaquettes de 12 pouces, l'EXPEC 7350S Plus est conçu pour des applications telles que l'analyse des plaquettes de carbure de silicium, l'analyse chimique électronique humide ultra-pure, l'analyse des gaz spéciaux électroniques et l'analyse de la pureté des cibles de pulvérisation de métaux de haute pureté. Il convient également à d'autres tâches d'essais industriels nécessitant une analyse élémentaire à l'état de traces.
Alors que les industries des semi-conducteurs et de la fabrication haut de gamme continuent d'accroître leurs attentes en matière de contrôle des processus et de pureté des matériaux, le rôle de l'instrumentation analytique évolue. Ces systèmes ne sont plus seulement des outils de laboratoire ; ils deviennent un élément essentiel de la capacité de fabrication avancée. L'EXPEC 7350S Plus reflète les progrès réalisés non seulement en matière de sensibilité de détection, mais aussi d'intégration des systèmes, de préparation à l'automatisation et de soutien aux applications critiques.
FPI continuera à investir dans des technologies analytiques avancées et à s'appuyer sur son expertise ICP-MS et son expérience industrielle pour fournir des solutions analytiques fiables et efficaces pour les semi-conducteurs, les matériaux de haute pureté et d'autres industries de fabrication haut de gamme.
