Concebido para o fabrico avançado de bolachas, materiais de elevada pureza e outras aplicações industriais de topo de gama, o EXPEC 7350S Plus combina a capacidade de deteção sub-ppt, a compatibilidade com o fluxo de trabalho automatizado e a conceção de sistemas centrados na aplicação para suportar um controlo mais rigoroso da contaminação e uma maior eficiência analítica.
A FPI anunciou o lançamento do Espectrómetro de Massa de Plasma Indutivamente Acoplado (ICP-MS/MS) Triplo Quadrupolo da série EXPEC 7350S Plus. Construído com base na plataforma ICP-MS estabelecida pela empresa e especificamente melhorado para fluxos de trabalho de fabrico de semicondutores e de topo de gama, o sistema oferece uma capacidade de deteção de metais ultra-rastreados sub-ppt e suporta aplicações críticas como a análise de iões metálicos de superfície associada a processos avançados de bolachas de 12 polegadas.
Porque é que a análise ultra-rastreada de metais é tão importante no fabrico de semicondutores?
À medida que o fabrico de semicondutores continua a avançar para nós de processo mais avançados, a tolerância às impurezas metálicas está a tornar-se cada vez mais limitada. Mesmo níveis extremamente baixos de contaminação metálica residual podem afetar a estabilidade do processo, o desempenho do dispositivo e o rendimento global. A capacidade analítica para iões metálicos de superfície, produtos químicos de elevada pureza e outros materiais críticos está, portanto, a tornar-se uma parte essencial da infraestrutura de fabrico avançado.
Por que escolher o EXPEC 7350S Plus para análise ultra-rastreada de semicondutores?
Para a análise de semicondutores ultra-traço, o valor do instrumento é definido não apenas pelos limites de deteção, mas também pela estabilidade do sistema, compatibilidade do fluxo de trabalho e capacidade de suportar aplicações críticas. Construído sobre uma plataforma ICP-MS comprovada e optimizado para ambientes de fabrico avançados, o EXPEC 7350S Plus reúne sensibilidade, compatibilidade de automação, segurança do sistema e suporte de aplicações num design de sistema mais equilibrado, ajudando os laboratórios e ambientes de produção a satisfazer as expectativas crescentes de análise de metais ultra-traço.
Maior sensibilidade para requisitos de deteção mais exigentes
Equipado com um sistema de transmissão de iões multicurvas desenvolvido pela própria empresa, lentes de extração duplas e uma interface de iões da próxima geração, o EXPEC 7350S Plus atinge limites de deteção sub-ppt. Para os laboratórios que monitorizam e controlam a contaminação metálica ultra-traço, isto proporciona um nível competitivo de capacidade analítica para aplicações avançadas de semicondutores onde a sensibilidade é crítica.
Concebido para fluxos de trabalho automatizados
Em ambientes de semicondutores, o desempenho analítico por si só não é suficiente; a integração do fluxo de trabalho também é importante. O EXPEC 7350S Plus suporta o acoplamento integrado com sistemas VPD totalmente automatizados e pode ser configurado para wafers de 8 e 12 polegadas, bem como para vários materiais de substrato, incluindo silício e carboneto de silício. Ao permitir a automatização desde a amostragem e pré-tratamento até à análise e elaboração de relatórios, o sistema ajuda a reduzir a variabilidade manual, a melhorar o rendimento e a alinhar-se melhor com os requisitos de consistência e eficiência das operações à escala de produção.
A segurança do sistema e a estabilidade operacional estão integradas na conceção
O EXPEC 7350S Plus incorpora uma arquitetura desenvolvida internamente nos principais componentes e sistemas de software e inclui um sistema inteligente de alarme de fugas de água e gás para monitorização em tempo real e proteção automática em condições anormais. Em ambientes analíticos críticos que exigem estabilidade operacional a longo prazo, estas caraterísticas ajudam a reforçar a segurança do instrumento, a segurança do laboratório e a segurança dos dados.
Que aplicações são suportadas pelo EXPEC 7350S Plus?
Para além da análise de iões metálicos de superfície para bolachas avançadas de 12 polegadas, o EXPEC 7350S Plus foi concebido para aplicações que incluem a análise de bolachas de carboneto de silício, análise química eletrónica húmida ultrapura, análise eletrónica de gases especiais e análise da pureza de alvos de pulverização de metais de elevada pureza. Também é adequado para outras tarefas de testes industriais que requerem análise elementar ultra-traço.
À medida que as indústrias de semicondutores e de fabrico topo de gama continuam a aumentar as expectativas de controlo dos processos e de pureza dos materiais, o papel da instrumentação analítica está a evoluir. Estes sistemas já não são apenas ferramentas de laboratório; estão a tornar-se uma parte essencial da capacidade de fabrico avançada. O EXPEC 7350S Plus reflecte o progresso não só na sensibilidade de deteção, mas também na integração de sistemas, prontidão de automatização e apoio a aplicações críticas.
A FPI continuará a investir em tecnologias analíticas avançadas e a basear-se nos seus conhecimentos especializados em ICP-MS e na sua experiência industrial para fornecer soluções analíticas fiáveis e eficientes para semicondutores, materiais de elevada pureza e outras indústrias transformadoras de topo de gama.
