Progettato per la produzione avanzata di wafer, materiali ad alta purezza e altre applicazioni industriali di alto livello, EXPEC 7350S Plus combina la capacità di rilevamento sub-ppt, la compatibilità con il flusso di lavoro automatizzato e il design del sistema incentrato sull'applicazione per supportare un controllo della contaminazione più stretto e una maggiore efficienza analitica.
FPI ha annunciato il lancio dello spettrometro di massa a triplo quadrupolo ad accoppiamento induttivo (ICP-MS/MS) EXPEC 7350S Plus Series. Costruito sulla consolidata piattaforma ICP-MS dell'azienda e specificamente migliorato per i flussi di lavoro dei semiconduttori e della produzione di fascia alta, il sistema offre una capacità di rilevamento dei metalli ultra-traccia sub-ppt e supporta applicazioni critiche come l'analisi degli ioni metallici di superficie associati ai processi avanzati dei wafer da 12 pollici.
Perché l'analisi dei metalli ultra-traccia è così importante nella produzione di semiconduttori?
Mentre la produzione di semiconduttori continua a spostarsi verso nodi di processo più avanzati, la tolleranza per le impurità metalliche diventa sempre più limitata. Anche livelli estremamente bassi di contaminazione metallica residua possono influire sulla stabilità del processo, sulle prestazioni del dispositivo e sulla resa complessiva. La capacità analitica per gli ioni metallici di superficie, le sostanze chimiche di elevata purezza e altri materiali critici sta quindi diventando una parte essenziale dell'infrastruttura di produzione avanzata.
Perché scegliere EXPEC 7350S Plus per l'analisi ultra-traccia dei semiconduttori?
Per l'analisi dei semiconduttori ultra-tracciati, il valore dello strumento non è definito solo dai limiti di rilevamento, ma anche dalla stabilità del sistema, dalla compatibilità con il flusso di lavoro e dalla capacità di supportare applicazioni critiche. Costruito su una collaudata piattaforma ICP-MS e ottimizzato per gli ambienti di produzione avanzati, EXPEC 7350S Plus riunisce sensibilità, compatibilità con l'automazione, sicurezza del sistema e supporto applicativo in un design di sistema più equilibrato, aiutando i laboratori e gli ambienti di produzione a soddisfare le crescenti aspettative per l'analisi dei metalli ultra-traccia.
Sensibilità più elevata per requisiti di rilevamento più esigenti
Dotato di un sistema di trasmissione ionica multi-curvatura sviluppato in proprio, di lenti di estrazione doppie e di un'interfaccia ionica di nuova generazione, EXPEC 7350S Plus raggiunge limiti di rilevamento inferiori al ppt. Per i laboratori che monitorano e controllano la contaminazione metallica ultra-traccia, questo strumento offre un livello competitivo di capacità analitica per le applicazioni avanzate dei semiconduttori in cui la sensibilità è fondamentale.
Progettato per flussi di lavoro automatizzati
Negli ambienti dei semiconduttori, le prestazioni analitiche da sole non sono sufficienti; anche l'integrazione del flusso di lavoro è importante. EXPEC 7350S Plus supporta l'accoppiamento integrato con sistemi VPD completamente automatizzati e può essere configurato per wafer da 8 e 12 pollici e per diversi materiali di substrato, tra cui silicio e carburo di silicio. Consentendo l'automazione dal campionamento e dal pretrattamento fino all'analisi e alla creazione di report, il sistema aiuta a ridurre la variabilità manuale, a migliorare la produttività e ad allinearsi meglio ai requisiti di coerenza ed efficienza delle operazioni su scala produttiva.
La sicurezza del sistema e la stabilità operativa sono integrate nel progetto
L'EXPEC 7350S Plus incorpora un'architettura sviluppata internamente nei componenti chiave e nei sistemi software e comprende un sistema intelligente di allarme per le perdite di acqua e gas per il monitoraggio in tempo reale e la protezione automatica in condizioni anomale. In ambienti analitici critici che richiedono una stabilità operativa a lungo termine, queste caratteristiche contribuiscono a rafforzare la sicurezza dello strumento, del laboratorio e dei dati.
Quali applicazioni supporta EXPEC 7350S Plus?
Oltre all'analisi degli ioni metallici di superficie per wafer avanzati da 12 pollici, EXPEC 7350S Plus è progettato per applicazioni quali l'analisi di wafer di carburo di silicio, l'analisi chimica elettronica umida ultra-pura, l'analisi di gas speciali elettronici e l'analisi della purezza di target di sputtering metallici di elevata purezza. È adatto anche ad altre attività di test industriali che richiedono l'analisi di elementi ultra-traccia.
Poiché l'industria dei semiconduttori e l'industria manifatturiera di fascia alta continuano ad aumentare le aspettative di controllo dei processi e di purezza dei materiali, il ruolo della strumentazione analitica si sta evolvendo. Questi sistemi non sono più solo strumenti di laboratorio, ma stanno diventando una parte essenziale della capacità di produzione avanzata. EXPEC 7350S Plus riflette i progressi non solo nella sensibilità di rilevamento, ma anche nell'integrazione del sistema, nella predisposizione all'automazione e nel supporto per le applicazioni critiche.
FPI continuerà a investire in tecnologie analitiche avanzate e a basarsi sulla sua competenza ICP-MS e sulla sua esperienza industriale per fornire soluzioni analitiche affidabili ed efficienti per i semiconduttori, i materiali di elevata purezza e altri settori produttivi di fascia alta.
