Das EXPEC 7350S Plus wurde für die fortschrittliche Waferherstellung, hochreine Materialien und andere industrielle High-End-Anwendungen entwickelt. Es kombiniert die Fähigkeit zur Sub-ppt-Detektion, die Kompatibilität mit automatisierten Arbeitsabläufen und ein anwendungsorientiertes Systemdesign zur Unterstützung einer strengeren Kontaminationskontrolle und einer höheren analytischen Effizienz.
FPI hat die Markteinführung des induktiv gekoppelten Dreifach-Quadrupol-Plasma-Massenspektrometers (ICP-MS/MS) der Serie EXPEC 7350S Plus bekannt gegeben. Das System, das auf der etablierten ICP-MS-Plattform des Unternehmens aufbaut und speziell für Halbleiter- und High-End-Fertigungsabläufe verbessert wurde, bietet die Möglichkeit, Metalle im Sub-ppt-Bereich im Ultraspurenbereich zu detektieren und unterstützt kritische Anwendungen wie die Analyse von Oberflächenmetallionen im Zusammenhang mit modernen 12-Zoll-Waferprozessen.
Warum ist die Ultra-Trace-Metallanalyse in der Halbleiterfertigung so wichtig?
Da sich die Halbleiterfertigung immer weiter in Richtung fortschrittlicherer Prozessknoten bewegt, wird die Toleranz gegenüber metallischen Verunreinigungen immer geringer. Selbst extrem geringe Restmetallverunreinigungen können die Prozessstabilität, die Leistung der Bauteile und die Gesamtausbeute beeinträchtigen. Die Analysefähigkeit für Oberflächenmetallionen, hochreine Chemikalien und andere kritische Materialien wird daher zu einem wesentlichen Bestandteil der modernen Fertigungsinfrastruktur.
Warum sollten Sie das EXPEC 7350S Plus für die Ultra-Trace-Halbleiteranalyse wählen?
Bei der Ultraspuren-Halbleiteranalyse wird der Wert des Instruments nicht nur durch die Nachweisgrenzen definiert, sondern auch durch die Systemstabilität, die Kompatibilität der Arbeitsabläufe und die Fähigkeit, kritische Anwendungen zu unterstützen. Das EXPEC 7350S Plus basiert auf einer bewährten ICP-MS-Plattform und ist für fortschrittliche Produktionsumgebungen optimiert. Es vereint Empfindlichkeit, Automatisierungskompatibilität, Systemsicherheit und Anwendungsunterstützung in einem ausgewogenen Systemdesign und hilft Laboren und Produktionsumgebungen, die steigenden Erwartungen an die Ultraspurenmetallanalyse zu erfüllen.
Höhere Empfindlichkeit für anspruchsvollere Detektionsanforderungen
Ausgestattet mit einem selbstentwickelten Multi-Bend-Ionentransmissionssystem, zwei Extraktionslinsen und einer Ionenschnittstelle der nächsten Generation erreicht das EXPEC 7350S Plus Nachweisgrenzen im Sub-ppt-Bereich. Für Laboratorien, die metallische Verunreinigungen im Ultraspurenbereich überwachen und kontrollieren, bietet dies ein wettbewerbsfähiges Niveau an analytischen Fähigkeiten für fortschrittliche Halbleiteranwendungen, bei denen die Empfindlichkeit entscheidend ist.
Entwickelt für automatisierte Arbeitsabläufe
In Halbleiterumgebungen reicht die analytische Leistung allein nicht aus; auch die Workflow-Integration ist wichtig. Das EXPEC 7350S Plus unterstützt die integrierte Kopplung mit vollautomatischen VPD-Systemen und kann für 8- und 12-Zoll-Wafer sowie für mehrere Substratmaterialien, einschließlich Silizium und Siliziumkarbid, konfiguriert werden. Durch die Automatisierung von der Probenahme und Vorbehandlung bis hin zur Analyse und Berichterstellung trägt das System dazu bei, manuelle Schwankungen zu reduzieren, den Durchsatz zu verbessern und die Anforderungen an Konsistenz und Effizienz im Produktionsmaßstab besser zu erfüllen.
Systemsicherheit und Betriebsstabilität sind in das Design integriert
Das EXPEC 7350S Plus verfügt über eine intern entwickelte Architektur für alle Schlüsselkomponenten und Softwaresysteme und umfasst ein intelligentes Wasser- und Gasleck-Alarmsystem für die Echtzeitüberwachung und den automatischen Schutz unter anormalen Bedingungen. In kritischen analytischen Umgebungen, die eine langfristige Betriebsstabilität erfordern, tragen diese Funktionen dazu bei, die Gerätesicherheit, die Laborsicherheit und die Datensicherheit zu verbessern.
Welche Anwendungen unterstützt das EXPEC 7350S Plus?
Neben der Oberflächen-Metallionenanalyse für moderne 12-Zoll-Wafer ist das EXPEC 7350S Plus für Anwendungen wie die Analyse von Siliziumkarbid-Wafern, hochreine nasschemische Analysen, elektronische Spezialgasanalysen und Reinheitsanalysen von hochreinen Metall-Sputter-Targets konzipiert. Es eignet sich auch für andere industrielle Prüfaufgaben, die eine Elementaranalyse im Ultraspurenbereich erfordern.
Da die Halbleiter- und High-End-Fertigungsindustrie immer höhere Anforderungen an die Prozesskontrolle und die Materialreinheit stellt, entwickelt sich die Rolle der Analyseinstrumente weiter. Diese Systeme sind nicht mehr nur Laborwerkzeuge, sondern werden zu einem wesentlichen Bestandteil der modernen Fertigungskapazitäten. Das EXPEC 7350S Plus spiegelt den Fortschritt nicht nur bei der Nachweisempfindlichkeit wider, sondern auch bei der Systemintegration, der Automatisierungsbereitschaft und der Unterstützung kritischer Anwendungen.
FPI wird weiterhin in fortschrittliche Analysetechnologien investieren und sein ICP-MS-Fachwissen und seine industrielle Erfahrung nutzen, um zuverlässige und effiziente Analyselösungen für die Halbleiterindustrie, hochreine Materialien und andere High-End-Herstellungsindustrien anzubieten.
