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工業プロセス用UV分析装置

分析機器分野の主要なイノベーターとして、フォーカスト・フォトニクス社(FPI)は、産業プロセスにおける精密かつリアルタイムなガス検知を実現する、紫外線分光法を活用した先進的なUVガス分析装置を提供しています。当社のソリューションは、高感度かつ最小限の干渉で汚染物質やプロセスガスの監視に優れており、効率性、安全性、コンプライアンスの向上を可能にします。.

UVガス分析とは何か? 産業プロセスにおける原理と応用

実証済みのランベルト・ベールの法則を活用し、当社のUVガス分光システムは急激な変動と緩やかな変動を示すスペクトル成分を分離します。急激な変動は直接的にガス吸収に起因します。高安定性の紫外線光源を精密に集光し、光ファイバー伝送経路に結合することで、光をガスセルへ導きます。ビームが通過する際、対象ガス分子は特性波長を選択的に吸収します。.

透過光は高分解能分光器に導かれ、精密回折格子が信号を分散させる。高感度アレイ検出器が分散光を捕捉し正確な電気信号に変換することで、ガスの連続吸収スペクトルが生成される。.

この先進的な光ファイバー吸収分光法ソリューションは、リアルタイムかつ高感度・高精度なガス測定を実現します。堅牢な設計により長期安定性と再現性が確保され、環境モニタリング、産業プロセス制御、科学研究用途に最適です。優れた光学設計と強力なデータ収集機能を組み合わせることで、複雑な環境下における微量ガスの検出・定量において比類のない性能を発揮します。.

FPIのUVガス分析ソリューションの応用分野

FPIのUVガス分析装置は、様々な産業分野において信頼性の高い現場測定を実現し、10,000件以上の導入実績と年間2,000台を超える販売実績を誇ります。当社のシステムはプロセスにシームレスに統合され、最適化とコンプライアンス達成のためのデータを提供します。.

FPIが優れている理由 紫外線分光法 解決策

22年の専門技術、888件以上の特許、中国特許金賞などの国家級表彰を有するFPIは、自律型UV分光分析技術の先駆者です。当社の分析装置は、Thermo Fisher、Agilent、Horibaなどの競合他社をコスト効率と現場耐久性において凌駕しています。.

比類なき精度と速度
過酷な環境向けに設計
シームレスなシステム統合
費用対効果の高い性能
グローバルな専門知識とサポート

ストリーム基礎:FPIの紫外線検出の仕組みを解き明かす

FPIの分析装置は、多層精密技術により気体信号を追跡します:

  1. 紫外線照射ブロードバンドランプが試料経路を照射し、全スペクトル吸収を捕捉する。.
  2. 経路増幅マルチパス細胞は相互作用を延長し、信号対雑音比を高める。.
  3. 差動測定分光器は基準値を差し引き、対象バンドを分離する。.
  4. インサイト統合ソフトウェアはフォイトプロファイルに適合し、SCADA向けにRS485経由でデータをエクスポートする。.

このUV導管は、当社のマルチパス回路図に示されている通り、厳重な流れを確保します。.

UVアナライザー技術一覧表:FPIの検出多様性

 
 
技法ガス感度展開適合性FPI強化
UV-DOAS二酸化硫黄、硫化水素0.5 ppmスクラバーH₂Oの広帯域遮断
多重吸収アンモニア、塩素0.05 ppm原子炉テフロン加工された経路
AIベースライン減算マルチガス<0.5%ドリフトスタック圧力スキャン継手
遠隔診断すべて1分未満アラート植物イーサネット自己診断
 

FPIのUVが2025年の腐食的要請を照らし出す。.

プロセス触媒:FPI UV分析装置の幅広い影響

FPI UV分析装置が安全性を促進:スクラバーでは15%のSO2廃棄物を削減、反応器では18%のNH3リスクを低減。オープンプロトコルと低SWaP設計により、当社のシステムは排出ダッシュボードを構築し、持続可能な化学プロセスに向けた25%のプロセス指標を精緻化します。.

ストリームクエリ:6つのUV回答

LGA-UVはどのようにして湿式スクラバーにおいてppm単位の精度を達成しているのか?

マルチパス(50mパス)およびテフロンコーティングはH₂O干渉に耐性があり、ASTM D6348に基づくドリフトは0.5%未満である。.

200~400 nmの波長範囲をカバーし、フィルターなしでSO₂/NH₃を分解能し、90%の交差拒絶を実現。.

非接触フランジと密閉光学系により、ISO 6974に基づき清掃回数が70%削減されます。.

RS485がH2S/Cl2をPLCにストリーミングし、18%の高速調整を最適化する。.

UV基準はNH3に対し0.3ppm未満のバイアスを生じ、自動ベースライン機能を備える。.

SS316Lハウジングと湿度補償により、OSHA 1910.1000に基づき、50 ppmのCl2環境下で<1%の誤差を維持。.

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