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FPIは、TDLAS（Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy：波長可変レーザー吸収分光法）の独自技術を活用し、高精度、高速応答、高信頼性、実質メンテナンスフリーを実現するLGAシステムを提供しています。.
FPI LGAシステムは、ほぼ全ての産業プロセスに適用可能であり、特に高温・高圧・粉塵・腐食性物質・汚染物質が混在する過酷な環境下での実績が豊富です。.
FPIは、TDLAS（Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy：波長可変レーザー吸収分光法）の独自技術を活用し、高精度、高速応答、高信頼性、実質メンテナンスフリーを実現するLGAシステムを提供しています。.
FPI LGAシステムは、ほぼ全ての産業プロセスに適用可能であり、特に高温・高圧・粉塵・腐食性物質・汚染物質が混在する過酷な環境下での実績が豊富です。.
原則
TDLAS技術は、レーザーエネルギーがガスによって選択的に吸収され、吸収スペクトルを形成するという原理を利用しています。半導体レーザーから特定の波長のレーザービームが放出され、ガスを通過するとき、レーザー強度の減衰は、測定されたガスに関連しています。強度の減衰を測定することにより濃度を求めることができます。.
| パラメータ | 仕様 |
|---|---|
| コンポーネント | O₂, CO, CO₂, H₂O, H₂S, HF, HCl, HCN, NH₃, CH₄, C₂H₂, C₂H₄, CH₃I |
| 精度 | HF: 0.02ppm; HCl, NH₃, C₂H₂：0.1ppm; H₂O, HCN: 0.3ppm; CH₄：0.4ppm; C₂H₄, CH₃I: 0.6ppm; CO, CO₂：10ppm；H₂S：20ppm；O₂：100ppm。. |
| 範囲 | HF: (0~5)ppm; C₂H₂, NH₃: (0~10)ppm; HCN: (0~30)ppm; CH₃I: (0~40)ppm; HCl, H₂O: (0~50)ppm; C₂H, CH: (0~60)ppm; CO, CO₂: (0~1000)ppm; H₂S: (0~2000)ppm; O₂: (0~1)%Vol, customized |
| 直線性 | ≤±1%F.S. |
| スパン・ドリフト | ≤±1%F.S./6か月 |
| 再現性 | ≤±1%F.S. |
| 応答時間 | T₉₀≤20s (流量1 L/min以上) |
| 予熱時間 | 15分以内 |
| 動作温度 | -30～60℃ |
| 保存温度 | -40～80℃ |
| パージガス | 計装空気、工業用N₂ (0.3~0.8)Mpa |
| サンプル圧力 | 0.5~3bar |
| サンプル温度 | -30~250°C |
| 封入率 | IP65 |
| 防爆 | 防爆構造 d IIC T5 |
| 電源 | AC100~240V |
| 消費 | ≤20W |
| アナログ入力 | 双方向 4～20mA |
| アナログ出力 | 2ウェイ4～20mA、絶縁、最大負荷750Ω |
| リレー出力 | 3ウェイリレー、24V/1A |
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