Utilizing proprietary technologies of Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy (TDLAS), FPI delivers the LGA system to satisfy in-situ measurements with high accuracy, fast response, strong reliability and virtually maintenance free.
FPI LGAシステムは、ほぼ全ての産業プロセスに適用可能であり、特に高温・高圧・粉塵・腐食性物質・汚染物質が混在する過酷な環境下での実績が豊富です。.
Utilizing proprietary technologies of Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy (TDLAS), FPI delivers the LGA system to satisfy in-situ measurements with high accuracy, fast response, strong reliability and virtually maintenance free.
FPI LGAシステムは、ほぼ全ての産業プロセスに適用可能であり、特に高温・高圧・粉塵・腐食性物質・汚染物質が混在する過酷な環境下での実績が豊富です。.
原則
TDLAS technology utilizes the principle that laser energy is absorbed selectively by gas to form an absorption spectrum. Laserbeams of specific wavelengths is emitted by semiconductorlaser, and when passes through the gas, the attenuation of the laserintensity is related with measured gas. The concentration can beobtained by measuring intensity attenuation.
| Parameter | Specification |
|---|---|
| コンポーネント | O₂, CO, CO₂, H₂O, H₂S, HF, HCl, HCN, NH₃, CH₄, C₂H₂, C₂H₄, CH₃I |
| 精度 | HF: 0.02ppm; HCl, NH₃, C₂H₂: 0.1ppm; H₂O, HCN: 0.3ppm; CH₄: 0.4ppm; C₂H₄, CH₃I: 0.6ppm; CO, CO₂: 10ppm; H₂S: 20ppm; O₂: 100ppm. |
| 範囲 | HF: (0~5)ppm; C₂H₂, NH₃: (0~10)ppm; HCN: (0~30)ppm; CH₃I: (0~40)ppm; HCl, H₂O: (0~50)ppm; C₂H₄, CH₄: (0~60)ppm; CO, CO₂: (0~1000)ppm; H₂S: (0~2000)ppm; O₂: (0~1)%Vol., customized |
| 直線性 | ≤±1%F.S. |
| スパン・ドリフト | ≤±1%F.S./6か月 |
| 再現性 | ≤±1%F.S. |
| 応答時間 | T₉₀≤20s (Flow rate more than 1 L/min) |
| 予熱時間 | 15分以内 |
| 動作温度 | -30~60℃ |
| 保存温度 | -40~80℃ |
| パージガス | Instrument air, industrial N₂ (0.3~0.8)Mpa |
| Sample Pressure | 0.5~3bar |
| Sample Temperature | -30~250°C |
| 封入率 | IP65 |
| Explosion-Proof | 防爆構造 d IIC T5 |
| 電源 | 100~240V AC |
| 消費 | ≤20W |
| Analog Inputs | 双方向 4~20mA |
| アナログ出力 | 2 way 4~20mA; isolation, maximum load 750Ω |
| リレー出力 | 3 way relays, 24V/1A |
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