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LGA-4100 現場調整型ダイオードレーザー（TDL）ガス分析装置

FPIは、チューナブルダイオードレーザー吸収分光法（TDLAS）の独自技術を活用し、高精度・高速応答・高い信頼性を備え、実質的にメンテナンスフリーで、その場測定を実現するLGAシステムを提供します。.

FPI LGAシステムは、ほぼ全ての産業プロセスに適用可能であり、特に高温・高圧・粉塵・腐食性物質・汚染物質が混在する過酷な環境下での実績が豊富です。.

ダウンロードとリソース

製品概要

チューナブルダイオードレーザー（TDL）技術に基づくLGA-4000は、各種有毒・有害物質（HF、NH₃, H₂S、HCI)を、高い精度と強固な信頼性をもって排ガスから検出でき、実質的にメンテナンスフリーである。.

8,000台以上の導入実績を有するLGAシステムは、燃焼・安全制御、プロセス最適化、エネルギー回収、科学研究、環境モニタリングなど幅広い分野で活用されています。これまでに、冶金、製油所、石油化学、天然ガス、発電所、廃棄物焼却、セメントなど、ガス測定が必要な様々な現場で導入実績があります。.

原則

TDLAS技術は、レーザーエネルギーがガスによって選択的に吸収され吸収スペクトルを形成する原理を利用している。半導体レーザーから特定の波長のレーザー光が放射され、ガス中を通過する際に生じるレーザー強度の減衰は、測定対象ガスと関連している。この強度減衰を測定することで濃度を得ることができる。.

LGA-4100 現場調整型ダイオードレーザー（TDL）ガス分析装置技術仕様

コンポーネント	酸素、一酸化炭素、二酸化炭素、水、硫化水素、フッ化水素酸、塩酸、シアン化水素、アンモニア、メタン、アセチレン、ブタン、エチレン、ヨウ化水素
精度	HF：0.02ppm；HCl、NH₃、C₂H₂：0.1ppm；H₂O、HCN：0.3ppm；; CH₄: 0.4ppm; C₂H₆, CH₃I: 0.6ppm; CO, CO₂: 10ppm; H₂S: 20ppm; O₂: 100ppm、室温・常圧下、1メートルの光学範囲を基準として。.
範囲	HF: (0～5)ppm; C₂H₆, NH₃: (0～10)ppm; HCN: (0～30)ppm; CH₄: (0～40)ppm; HCl, H₂O: (0～50)ppm; C₂H₆, CH₃I: (0～60)ppm; CO、CO₂：(0～1000)ppm；H₂S：(0～2000)ppm；; O₂: (0～1)%Vol、カスタマイズ済み。.
直線性	≤±1%F.S.
スパン・ドリフト	≤±1%F.S./6か月
応答時間	≤1秒
予熱時間	15分以内
動作温度	-30～60℃
保存温度	-40～80℃
パージガス	計器用空気、工業用窒素：(0.3～0.8)MPa
封入率	IP65
防爆	防爆構造 d IIC T5
電源	24V DC、220V ACはオプション
消費	≤20W
アナログ出力	双方向 4～20mA
リレー出力	3極 24V DC/1A

多様な産業分野での応用

廃棄物焼却における塩酸（HCl）、フッ化水素酸（HF）。.

肥料プラントにおけるアンモニア（NH3）とフッ化水素（HF）の監視.

製薬業界における塩酸（HCl）。.

火力発電所におけるSCR、SNCRのNH3スリップ.

主な特徴 LGA-4100 現場調整型ダイオードレーザー（TDL）ガス分析装置

現場でのガスサンプリングは行わない。.
相互干渉なし。.
1秒未満の高速応答。.
多様な光学長（0.5～20m）。.
あらゆる過酷な条件下で信頼性が高い：高温・高圧、高濃度の粉塵、湿気、腐食。.
オンライン校正、ゼロドリフトなし。.
様々な用途に合わせた数千もの特注ソリューション。.
国際ATEX認証取得済み。.

なぜ LGA-4100 現場調整型ダイオードレーザー（TDL）ガス分析装置際立つ

よくあるご質問

精密分析を解き放つ LGA-4100 現場調整型ダイオードレーザー（TDL）ガス分析装置

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