エクスペック 7350 ICP-MS/MS

世界初の縦型トーチデザイン

ICP-MS技術で初めて、トーチ内の塩析を大幅に低減する垂直トーチ設計を導入し、トーチの寿命を効果的に延ばし、高塩分や複雑なマトリックスサンプルの分析に関連する課題に対処しています。さらに、アルゴンガスの消費量が大幅に削減され、熱と排気ガスは排気システムに自然に上昇するため、クリーニングの必要性が最小限に抑えられ、装置のダウンタイムが短縮されます。.

次世代全固体イオン源

このシステムは、超高速インピーダンス整合機能を備えた独自の特許取得済みデュアルRF電源設計を特徴としており、より高速な応答、より強力な耐干渉性、プラズマ安定性の向上を実現します。可動部品がない全固体RFシステムは、コンパクトな装置設計を維持しながら、より安定したICPプラズマを提供し、全体的な分析安定性を向上させる。このシステムは、100%エタノールを含む高揮発性有機溶媒の直接分析にも対応しています。.

超高マトリックスダイレクトインジェクションシステムと専用の有機サンプル導入システムと組み合わせることで、EXPEC 7350は、事実上あらゆる複雑なマトリックス条件下で、長期にわたる安定した信頼性の高い分析を実現します。.

• 高塩分サンプル分析用に特別に設計され、優れたマトリックス耐性を実現
• 高塩分直接注入モードとオンライン希釈モードの両方をサポート
• 高塩分モードにより、10%を超える塩分を含むサンプルの直接分析が可能となり、分析効率が大幅に向上
• オンライン希釈モードは、パーセンテージレベルの濃度サンプルの直接分析を可能にし、高濃度分析における従来のICP-MSの限界を効果的に克服します。

進化したコールドプラズマモード

EXPEC 7350は、500Wという低出力でのコールドプラズマモードでの動作が可能な、独自設計の自励式全固体RFジェネレーターを搭載しています。これにより、Arベースの干渉イオンのイオン化が効果的に抑制され、39K+、40Ca+、56Fe+などの分析対象イオンのS/N比が大幅に改善されます。.

その結果、元素検出限界が大幅に向上し、超微量元素分析アプリケーションで優れた性能を発揮する。.

優れた質量分析性能のための卓越した構造設計

組み込みガスシリンダーの設計

• 最適化された超短ガスパイプライン設計により、ハイスループット分析の要求に応える迅速なガス交換が可能
• オンライン任意ガス混合機能で最大5つの衝突/反応ガスをサポートし、様々なアプリケーションシナリオの要件を満たします。
• 外部ガスボンベが不要なため、実験室のスペースを節約し、より安全で使いやすい実験環境を実現します。

3台のターボ分子ポンプと5段真空システム

• イオン透過効率を高める高真空性能を実現
• ポンプ停止時間の短縮により、装置の稼働率と作業効率が向上

イオン透過損失を低減する差動真空設計

• イオン移動時のイオン透過損失を最小化
• ターボ分子ポンプの負荷を軽減し、ポンプの寿命を延ばす

柔軟な分析モード

EXPEC 7350 ICP-MS/MS は、コリジョン/反応セルのポテンシャルをフルに発揮します。5チャンネルの衝突/反応ガスと先進のMS/MSテクノロジーを組み合わせたこのシステムは、非常に複雑なサンプルマトリックスを分析する場合でも、高感度を維持しながら干渉を完全に除去することができ、正確で信頼性の高い分析結果を保証します。.

• SQモード:Q1がすべてのイオンを通過させる従来のICP-MS分析モード
• TQマスフィルターモード:Q1とQ2は同じ質量電荷比を選ぶ
• TQマス・シフト・モード:Q1とQ2は異なる質量電荷比を選ぶ

真のトリプル四重極デザイン

• Q1、Q2ともに同一仕様の純モリブデン製四重極を採用し、卓越した質量選択性と四重極の安定性を実現
• 業界最長クラスの四重極を搭載し、イオン振動数を増加させ、質量分解能を0.3amuより向上させました。
• 超広帯域バンドパス機能により、装置の感度が2倍以上向上

ユニークなトリプルプリ四重極デザイン

• 四重極システムの「有効長」を延長し、フリンジ磁場の干渉を低減し、イオン注入効率を改善することで、100万カウントレベルの超高感度を実現。
• Q1およびQ2四重極のコンタミネーションを低減し、クリーニングとメンテナンスの必要性を最小限に抑えながら、イオン透過効率を向上。

直角イオン光学設計

• 直角イオン偏向レンズはイオンビームを90度曲げ、分析対象物イオンの四重極への透過率を最大にします。
• イオンビームから中性種を完全に除去することで、卓越したフィルタリング能力を提供します。
• バックグラウンドノイズを5倍以上低減し、S/N比を大幅に改善し、正確で信頼性の高い分析結果を保証します。

第3世代高速ダイナミック衝突・反応セル

• ウォーターフォール流分布型衝突・反応ガス導入セルは、衝突・反応ガスをセル全体に直交して導入するため、セル容積がコンパクトで、イオン透過効率が高い。
• 新設計のウォーターフォールフロー型ガス拡散構造により、セル内のガス分布が最適化され、従来の衝突・反応セルの30%のガス流量で同等の衝突・反応性能を達成。
• 衝突・反応効率を大幅に改善し、分析感度を向上
• 様々な複雑なマトリックスやアプリケーションシナリオのトレース分析要件を満たすために、最大5つの設定可能な衝突/反応ガスをサポートします。

二次軸外イオン光学設計

• 分析対象イオンを180度偏向させてマトリックス粒子から完全に分離し、装置のバックグラウンドを効果的に低減し、S/N比を劇的に改善します。
• 専用の中性粒子コレクター設計により、生涯メンテナンスフリーのイオン光学操作を実現

使いやすいエレメントVワークステーション

• 完全中国語化されたElement Vワークステーションは、集中制御プラットフォーム設計を特徴とし、複数の機器の統合管理をサポートします。
• オフラインデータ解析機能を備えた強力なハイスループット・バッチデータ処理ソフトウェアにより、データ処理効率を大幅に向上
• 様々な分析システムや補助装置との統合をサポートする、豊富でオープンな外部インターフェース

半導体分析、オンライン・モニタリング、その他の特殊アプリケーション用の専用アプリケーション・パッケージなど、各業界に特化したソリューションが用意されている。.

シンプルで簡単な操作

• 視覚化された動作モニタリング、スタートアップセルフチェック、機器の健全性ステータス表示により、システムを一目で確認可能
• ワンクリックによる自動チューニングと質量校正により、装置の操作を簡素化し、ユーザーの作業負担を軽減
• EPAメソッドに規定されたQC要件を満たすために、サンプルの取り込み時間とすすぎ時間を動的に調整可能

規制遵守

• 3レベルのユーザーアクセス管理と監査証跡機能をサポート
• GMP規制要件および3Q資格基準に準拠
• 21 CFR Part 11コンプライアンス要件に対応

卓越した妨害除去能力

従来のICP-MSシステムとHe運動エネルギー弁別（KED）技術を組み合わせることで、高マトリックス試料中の多原子干渉を効果的に低減できることが、実用的なアプリケーションによって実証されている。しかし、このようなアプローチでは、等圧イオンや二重荷電イオンによるスペクトル干渉を除去する能力に限界があり、適用範囲が制限されます。.

従来のICP-MSシステムの反応モードでは、多数の未知イオンがターゲットイオンと一緒に衝突/反応セルに入り、不要な副生イオンを生成し、分析精度を損なう可能性のある新たな干渉を生じさせる。.

対照的に、次世代EXPEC 7350 MS/MSモードには、衝突/反応セルの前に配置された追加の四重極マスフィルター（TQ Q1）が組み込まれています。この設計により、干渉イオンを完全に排除しながらターゲットイオンのみがセルに入ることができ、感度とS/N比が劇的に向上します。その結果、EXPEC 7350は信頼性の高い干渉除去性能を発揮し、幅広い分析分野の要求の厳しいアプリケーションに最適です。.